半導体物性
不純物濃度の低いシリコンで、温度が上がると移動度が下がる主な理由はどれか。
- A不純物の数が増えるため
- Bキャリアの数が減るため
- C格子振動(フォノン)による散乱が増えるため
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正解:C. 格子振動(フォノン)による散乱が増えるため
温度が上がると結晶の原子の振動(格子振動)が激しくなり、キャリアが散乱されやすくなるため、移動度は下がります。不純物濃度が高い場合は不純物による散乱も重要になり、低温ではこちらが支配的になります。
半導体物性
正解:C. 格子振動(フォノン)による散乱が増えるため
温度が上がると結晶の原子の振動(格子振動)が激しくなり、キャリアが散乱されやすくなるため、移動度は下がります。不純物濃度が高い場合は不純物による散乱も重要になり、低温ではこちらが支配的になります。