MEMS・センサ

MEMSの製造でSOIウエハがよく使われる理由として正しいものはどれか。

  1. ASOIウエハは最も安価なウエハだから
  2. B上部のシリコン層を構造体に、埋め込み酸化膜をエッチングが止まる層や犠牲層として使えるから
  3. CSOIウエハは光を通さないから
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正解：B. 上部のシリコン層を構造体に、埋め込み酸化膜をエッチングが止まる層や犠牲層として使えるから

SOIウエハでは、上部の単結晶シリコン層の厚さが正確にそろっているため、そのまま可動構造の材料に使えます。深掘りエッチングは埋め込み酸化膜で止まり、その酸化膜を除去すれば構造体を浮かせることもできるため、MEMSの製造に便利です。

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