MEMS 제조에서 SOI 웨이퍼가 자주 사용되는 이유로 올바른 것은?

정답: B. 위쪽 실리콘층을 구조체로, 매립 산화막을 식각이 멈추는 층이나 희생층으로 사용할 수 있기 때문에

SOI 웨이퍼에서는 위쪽 단결정 실리콘층(수 µm~수십 µm)의 두께가 정확하게 고르므로 그대로 가동 구조의 재료로 사용할 수 있고, 폴리실리콘과 같은 잔류 응력 문제도 없습니다. 딥 식각은 매립 산화막에서 정확히 멈추고, 그 산화막을 불산으로 제거하면 구조체를 띄울 수 있어 자이로나 광 MEMS 제조에 편리합니다. 대신 웨이퍼가 일반 실리콘보다 비쌉니다.