配線プロセス

微細化が進んだLSIで、ゲートの遅延と比べた配線の遅延の傾向として正しいものはどれか。

  1. A配線の遅延は小さくなり、無視できるようになった
  2. B配線の遅延とゲートの遅延は無関係である
  3. C配線の遅延の割合が大きくなり、性能を制限する要因になっている
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正解:C. 配線の遅延の割合が大きくなり、性能を制限する要因になっている

トランジスタは微細化で速くなる一方、配線は細く間隔が狭くなるため抵抗と容量が増え、配線の遅延は小さくなりにくくなっています。そのため、回路全体の遅延に占める配線の遅延の割合が大きくなり、配線の材料や構造の改良、リピータの挿入などが重要になっています。

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