Siliciumwafers

Wat is de belangrijkste reden om bij het einde van het trekken van een monokristal met de CZ-methode de diameter van de ingot geleidelijk te laten afnemen (het staartstuk toe te spitsen) voordat hij van de smelt wordt losgemaakt?

  1. ADe zuurstofconcentratie verhogen
  2. BOm te voorkomen dat bij abrupt loskomen van de smelt slipdislocaties door thermische schok ontstaan en zich in het kristal voortplanten
  3. CDe ingot lichter maken
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Om te voorkomen dat bij abrupt loskomen van de smelt slipdislocaties door thermische schok ontstaan en zich in het kristal voortplanten

Wanneer de ingot met grote diameter van de smelt wordt losgemaakt, ontstaan door de plotselinge temperatuurverandering thermische spanningen die dislocaties veroorzaken; deze planten zich over een afstand van ongeveer de diameter omhoog in het kristal voort en beschadigen het cilindrische deel dat product wordt. Door de diameter geleidelijk kegelvormig te verkleinen alvorens los te maken, worden het ontstaan en de voortplanting van deze dislocaties voorkomen. Schouder en staartstuk worden geen product, zodat het verkorten van hun lengte ook een kostenbesparingsonderwerp is.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Siliciumwafers

  1. Welke waarde ligt het dichtst bij de gebruikelijke concentratie interstitieel zuurstof in een met de CZ-methode gegroeid siliciumkristal?
  2. Welk slijpmiddel wordt in het algemeen gebruikt in de polijstvloeistof bij het spiegelpolijsten van siliciumwafers (finish-polijsten met CMP)?
  3. Wat is het juiste hoofdgebruik van n⁺-siliciumwafers met lage soortelijke weerstand en een hoge concentratie arseen of antimoon?
  4. Wanneer CZ-silicium rond 450 °C wordt verhit, kunnen zuurstofatomen zich verzamelen en als donor werken, waardoor de soortelijke weerstand van de wafer verandert. Hoe heet dit?
  5. Welke voorbehandelingsmethode lost, voor de gevoelige analyse van metaalverontreiniging aan het waferoppervlak, de oxidelaag aan het oppervlak op met waterstoffluoridedamp, verzamelt de verontreiniging in een druppel en brengt die in een analyseapparaat?

Vergelijkingen bij dit onderwerp