Welke zuiverheid is de juiste richtwaarde voor een sputtertarget voor de Cu-zaadlaag?

Antwoord: A. Hoge zuiverheid van ca. 6N (99,9999 %)

Onzuiverheden in een sputtertarget komen rechtstreeks in de laag terecht en verslechteren de weerstand van de bedrading en de weerstand tegen elektromigratie. Daarom wordt van Cu-targets een hoge zuiverheid van ca. 6N (99,9999 %) vereist. Als bovendien de grootte en oriëntatie van de kristalkorrels gelijk worden gemaakt, worden de richting en snelheid van de losgeslagen atomen stabiel en neemt de uniformiteit van de laagdikte toe. Bij een zuiverheid van 90 % of 50 % ontstaat geen laag die als bedrading bruikbaar is.