Welke verbinding wordt gebruikt als vloeibare diffusiebron bij het inbrengen van fosfor in silicium door thermische diffusie?

Antwoord: B. Fosforoxychloride (POCl3)

Fosforoxychloride (POCl3) is bij kamertemperatuur vloeibaar; als het met stikstof wordt doorgeborreld en verdampt en samen met zuurstof de oven in wordt geleid, ontstaat op het siliciumoppervlak een fosforhoudende glaslaag (PSG), vanwaaruit het fosfor diffundeert. Omdat enkele honderden wafers tegelijk kunnen worden verwerkt en het goedkoop is, wordt het nog steeds veel gebruikt voor onder meer de vorming van de n-type emitterlaag van kristallijne siliciumzonnecellen. Voor boor wordt BBr3 gebruikt, en als gassen fosfine en diboraan.