산화와 확산

열확산으로 실리콘에 인을 도입할 때 액체 확산원으로 사용되어 온 화합물은?

  1. A아르신(AsH3)
  2. B옥시염화인(POCl3)
  3. C디보란(B2H6)
정답과 해설 보기

정답: B. 옥시염화인(POCl3)

옥시염화인(POCl3)은 실온에서 액체이며, 질소로 버블링하여 기화시키고 산소와 함께 로에 흘리면 실리콘 표면에 인을 포함한 유리층(PSG)이 생기고, 거기에서 인을 확산시킵니다. 수백 장을 한 번에 처리할 수 있고 저렴해서 결정 실리콘 태양전지의 n형 에미터층 형성 등에 지금도 널리 사용됩니다. 붕소에는 BBr3가, 기체로는 포스핀이나 디보란이 사용됩니다.

  • A. 아르신은 비소를 포함한 가스입니다.
  • B. 올바릅니다. 인의 액체 확산원입니다.
  • C. 디보란은 붕소를 포함한 가스입니다.
이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

산화와 확산의 다른 문제

  1. MOS 구조의 산화막과 그 계면에 있는 전하의 종류의 조합으로 일반적으로 분류되는 것은?
  2. Deal-Grove 모델에서 열산화 초기(산화막이 아직 얇을 때)의 산화막 두께와 시간의 관계로 올바른 것은?
  3. LOCOS 등의 소자 분리에 사용된 필드 산화막과 MOSFET의 게이트 산화막의 두께 관계로 일반적으로 올바른 것은?
  4. PN 접합의 '접합 깊이'의 정의로 일반적으로 올바른 것은?
  5. 실리콘을 산화하는 동안 붕소나 인의 확산이 산화하지 않을 때보다 빨라지는 현상을 무엇이라고 합니까?