Oxidation und Diffusion

Welche Verbindung wird als flüssige Diffusionsquelle verwendet, um Phosphor durch thermische Diffusion in Silizium einzubringen?

  1. AArsin (AsH3)
  2. BPhosphoroxychlorid (POCl3)
  3. CDiboran (B2H6)
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Antwort: B. Phosphoroxychlorid (POCl3)

Phosphoroxychlorid (POCl3) ist bei Raumtemperatur flüssig; wird es mit Stickstoff durchperlt und zusammen mit Sauerstoff in den Ofen geleitet, entsteht auf der Siliziumoberfläche eine phosphorhaltige Glasschicht (PSG), aus der der Phosphor diffundiert. Da mehrere hundert Wafer gleichzeitig behandelt werden können und es preisgünstig ist, wird es heute noch weit verbreitet z. B. zur Bildung der n-Emitterschicht kristalliner Siliziumsolarzellen verwendet. Für Bor dient BBr3, als Gase werden Phosphin und Diboran verwendet.

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