Waarom worden SOI-wafers veel gebruikt bij de productie van MEMS?

Antwoord: B. Omdat de bovenste siliciumlaag als structuur kan dienen en het ingebedde oxide als etsstoplaag of opofferingslaag

Bij SOI-wafers is de dikte van de bovenste monokristallijne siliciumlaag (enkele µm tot enkele tientallen µm) nauwkeurig gelijkmatig, zodat die rechtstreeks als materiaal voor bewegende structuren kan dienen, zonder het probleem van restspanning zoals bij polysilicium. Diep etsen stopt nauwkeurig op het ingebedde oxide, en door dat oxide met fluorwaterstofzuur te verwijderen kan de structuur loskomen, wat handig is voor de productie van gyroscopen en optische MEMS. Daar staat tegenover dat de wafers duurder zijn dan gewoon silicium.