Nederlands
Menu

Laagafzetting (CVD, PVD)

Hoe heet het geleidend maken van de laag door tijdens het afzetten van een polysiliciumlaag met LPCVD gelijktijdig een gas met onzuiverheden zoals fosfor toe te voeren?

  1. AIn-situ doteren
  2. BIonenimplantatie
  3. CThermische oxidatie
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. In-situ doteren

Doteringsgas (zoals fosfine of diboraan) tijdens de depositie mee laten stromen zodat onzuiverheden tegelijk met het vormen van de laag worden ingebouwd, heet in-situ doteren. Het hoeft geen ionenimplantatie of diffusie achteraf, en een voordeel is dat ook in lagen in diepe sleuven en gaten, zoals de condensatorelektroden van DRAM, gemakkelijk gelijkmatig onzuiverheden worden aangebracht. Omdat het doteringsgas de depositiesnelheid en de uniformiteit verandert, is afstemming van de omstandigheden nodig.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Laagafzetting (CVD, PVD)

  1. Wat is de belangrijkste reden dat voor het vullen van een contactgat met CVD-wolfraam eerst een dunne laag zoals TiN (titaniumnitride) als ondergrond wordt aangebracht?
  2. Wat is het belangrijkste doel van densificatie, het na de depositie bij hoge temperatuur uitgloeien van oxidelagen die bij lage temperatuur met CVD zijn afgezet?
  3. Hoe heet het temperatuurbereik waarin bij ALD de laagdikte per cyclus constant is door zelfbeperkende oppervlaktereacties?
  4. Welk voordeel heeft sputteren ten opzichte van vacuümopdampen?
  5. Welk type CVD-apparaat verhit alleen de tafel waarop de wafer ligt en houdt de wand van de reactor koud?

Vergelijkingen bij dit onderwerp