CMP und Reinigung

Warum haften einmal abgelöste Partikel in alkalischen Reinigungsflüssigkeiten wie SC-1 kaum wieder an?

  1. AWeil die Viskosität der Reinigungsflüssigkeit sehr hoch ist
  2. BWeil Waferoberfläche und Partikel gleichnamig geladen sind und sich abstoßen
  3. CWeil sich die Partikel in der Reinigungsflüssigkeit auflösen und verschwinden
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Antwort: B. Weil Waferoberfläche und Partikel gleichnamig geladen sind und sich abstoßen

In alkalischer Lösung laden sich die Siliziumoberfläche und die Oberfläche vieler Partikel (Silica, Nitride usw.) beide negativ auf (das Zetapotenzial wird negativ). Gleichnamige Ladungen stoßen sich ab, sodass von der Oberfläche gelöste Partikel kaum wieder anhaften. In saurer Lösung dagegen hat das Zetapotenzial je nach Partikel unterschiedliche Vorzeichen, wodurch es leicht zur Wiederablagerung kommt. Dies ist einer der Gründe, warum SC-1 bei der Partikelentfernung wirksam ist.

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