배선 공정

LSI의 「다층 배선」에 대한 설명으로 올바른 것은?

  1. A배선을 1층만 평면에 나열한 것
  2. B절연막을 사이에 두고 배선 층을 여러 층 겹치고, 층 사이를 비아로 연결한 것
  3. C배선을 쓰지 않고 무선으로 신호를 보내는 것
정답과 해설 보기

정답: B. 절연막을 사이에 두고 배선 층을 여러 층 겹치고, 층 사이를 비아로 연결한 것

다층 배선에서는 배선 층과 절연막을 번갈아 쌓고 위아래 층의 배선을 비아로 연결합니다. 평면만으로는 배선할 수 없는 다수의 접속을 입체적으로 배치할 수 있으며, 일반적으로 층마다 배선 방향을 세로와 가로로 번갈아 바꾸어 혼잡을 줄입니다. 1960년대의 집적회로는 배선이 1층이었지만, CMP에 의한 평탄화 도입으로 층을 쌓기 쉬워져 현재의 첨단 로직에서는 15층 안팎이 되었습니다.

  • A. 1층만으로는 다수의 소자를 연결할 수 없습니다.
  • B. 맞습니다. 절연막을 사이에 두고 여러 층 쌓아 비아로 연결합니다.
  • C. LSI 내부의 배선은 금속에 의한 유선 접속입니다.
이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

배선 공정의 다른 문제

  1. 실온에서 구리(Cu)의 저항률에 가장 가까운 값은? (벌크 값)
  2. LSI 배선 재료에 요구되는 주된 성질의 조합으로 올바른 것은?
  3. 배선과 배선 사이를 채우는 층간 절연막의 기본 역할은?
  4. 알루미늄 배선에 구리를 0.5% 정도 첨가한 Al-Cu 합금이 사용되어 온 주된 이유는?
  5. 전해 도금으로 형성한 Cu막이 실온에 방치하는 것만으로도 시간이 지남에 따라 결정립이 커지고 저항률이 내려가는 현상을 무엇이라고 하는가?