식각

식각에 사용하는 일반적인 플라즈마에서 이온과 라디칼의 수의 관계로 올바른 것은?

  1. A항상 같은 수이다
  2. B라디칼이 이온보다 훨씬 많다
  3. C이온이 라디칼보다 훨씬 많다
정답과 해설 보기

정답: B. 라디칼이 이온보다 훨씬 많다

플라즈마 속에서는 분자가 전리되어 이온이 되는 것보다 더 낮은 에너지로 해리되어 라디칼이 되는 쪽이 일어나기 쉽고, 라디칼은 전하를 갖지 않아 벽에 끌려가지 않으며 수명도 길어집니다. 그 때문에 라디칼의 밀도는 이온보다 2~3자릿수 이상 높은 것이 일반적입니다. 라디칼이 화학 반응의 주역을 맡고, 수가 적은 이온이 충격으로 반응을 촉진하며 방향을 결정하는 역할 분담입니다.

  • A. 생성되기 쉬운 정도와 수명이 다르므로 수는 다릅니다.
  • B. 맞습니다. 라디칼이 몇 자릿수 더 많은 것이 일반적입니다.
  • C. 일반적인 조건에서는 이온 쪽이 더 적습니다.
이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

식각의 다른 문제

  1. 플라즈마에 가는 전극을 꽂고 전압을 바꿨을 때의 전류로부터 플라즈마의 전자 온도나 밀도를 측정하는 방법은?
  2. 건식 식각에서 홈 바닥의 측벽 가장자리가 중앙보다 깊게 파여 가는 홈이 생기는 형상 이상을 무엇이라고 부르는가?
  3. 실리콘에 XeF2 가스와 아르곤 이온 빔을 동시에 쬐면, 각각 단독일 때의 합보다 훨씬 빠르게 식각이 진행된다. 이것이 보여주는 건식 식각의 성질은?
  4. 고종횡비 패턴의 플라즈마 식각에서 전자가 측벽에서 차단되어 패턴 상부에 음전하가 쌓이고, 양이온이 바닥에서 휘어 형상 이상이나 손상을 일으키는 현상은?
  5. 플라즈마에서 생성한 이온을 중성화한 뒤 웨이퍼에 쬐어, 대전이나 자외선에 의한 손상을 억제하며 가공하는 연구 단계의 식각 방법은?

이 분야의 비교