식각

플라즈마의 고주파 전력을 온·오프하면서 식각하는 펄스 플라즈마의 이점으로 올바른 것은?

  1. A식각 장치가 필요 없어진다
  2. B웨이퍼가 계속 가열된다
  3. C전자 온도나 이온의 에너지를 제어하기 쉽고, 차지업이나 손상을 억제하기 쉽다
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정답: C. 전자 온도나 이온의 에너지를 제어하기 쉽고, 차지업이나 손상을 억제하기 쉽다

펄스 플라즈마에서는 전력을 끄고 있는 수십 µs 동안 전자 온도가 급격히 낮아지고 음이온도 생겨 웨이퍼 표면의 대전이 중화되기 쉬워집니다. 온과 오프의 시간 비(듀티비)나 주파수로 이온의 에너지나 라디칼 종류의 비율도 조정하기 쉬워지므로, 노칭이나 전자 셰이딩에 의한 형상 이상, 게이트 절연막 손상을 억제하는 수단으로 첨단 가공에서 사용되고 있습니다.

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