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Flot de conception de circuits intégrés et EDA

Pour un layout prévu pour le double patterning, quelle répartition des motifs l'outil de conception effectue-t-il ?

  1. ARegrouper tous les motifs sur un seul masque
  2. BSupprimer des motifs au hasard
  3. CRépartir (colorier) les motifs sur deux masques pour que les motifs d'un même masque ne soient pas trop proches
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Réponse : C. Répartir (colorier) les motifs sur deux masques pour que les motifs d'un même masque ne soient pas trop proches

En double patterning, des motifs dont l'espacement ne peut être résolu en une seule exposition sont répartis sur deux masques exposés séparément. L'outil de conception colorie les motifs (coloring) de sorte que les motifs trop proches se trouvent sur des masques différents. Lorsque trois motifs mutuellement proches forment une boucle impaire, deux couleurs ne suffisent pas et l'outil signale une erreur à corriger. Les motifs ne sont ni regroupés sur un seul masque ni supprimés au hasard.

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