LSI-Entwurfsablauf und EDA

Welche Musterzuordnung durch das Entwurfswerkzeug ist bei einem Layout mit Double Patterning richtig?

  1. AAlle Muster werden auf einer einzigen Maske zusammengefasst
  2. BMuster werden zufällig entfernt
  3. CDie Muster werden auf zwei Masken verteilt (gefärbt), sodass Muster innerhalb derselben Maske nicht zu nah beieinanderliegen
Antwort und Erläuterung anzeigen

Antwort: C. Die Muster werden auf zwei Masken verteilt (gefärbt), sodass Muster innerhalb derselben Maske nicht zu nah beieinanderliegen

Beim Double Patterning werden Muster mit Abständen, die in einer einzigen Belichtung nicht aufgelöst werden können, auf zwei Masken verteilt und getrennt belichtet. Das Entwurfswerkzeug färbt (Coloring) so, dass zu nahe beieinanderliegende Muster auf verschiedene Masken kommen. Bilden drei Muster einen ungeraden Ring, in dem jedes dem nächsten nahe ist, lassen sie sich nicht mit zwei Farben färben; dies wird als Fehler gemeldet und muss korrigiert werden. Zusammenfassen auf einer Maske oder zufälliges Entfernen findet nicht statt.

Dieses Thema üben Zur Themenseite

Weitere Fragen zu LSI-Entwurfsablauf und EDA

  1. Welche Aussage zur Netzliste ist richtig?
  2. Wie wird die Beschreibung der Timing-Bedingungen wie Taktperiode und Ein-/Ausgangsverzögerungen für Logiksynthese und statische Timing-Analyse genannt?
  3. Welches ist das typische Format der Layoutdaten, die für die Maskenfertigung an die Fertigung übergeben werden?
  4. Welcher Prozess legt zu Beginn von Platzierung und Verdrahtung die grobe Anordnung großer Schaltungsblöcke, Ein-/Ausgangsanschlüsse und Versorgungsleitungen fest?
  5. Welche Kenngröße dient bei der RTL-Verifikation zur Bewertung, wie gründlich verifiziert wurde?

Vergleiche zu diesem Thema