Wie heißen sehr sanfte Unebenheiten der Waferoberfläche mit Wellenlängen von einigen mm und Höhen von einigen zehn nm?

Antwort: A. Nanotopografie

Die Nanotopografie ist ein sanftes Relief mit seitlicher Ausdehnung von etwa 0.2 bis 20 mm und einer Höhe von einigen bis einigen zehn nm. Auch wenn es so sanft ist, dass es im Fokusbereich der Belichtung kein Problem darstellt, kann beim Planarisieren dünner Schichten per CMP das Pad diesem Relief nicht vollständig folgen, und die Schichtdicke streut ortsabhängig. Sie wird durch Polier- und Doppelseitenpolierbedingungen unterdrückt und bei Wafern für fortschrittliche Bauelemente streng kontrolliert.