Reinraum und Fertigungsanlagen

Wie heißt das Konzept, nur den engen Raum um den Wafer auf hohe Reinheit zu halten?

  1. ABallroom-Ansatz
  2. BMinienvironment-Ansatz
  3. CAnsatz mit abgeschaltetem Downflow
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Antwort: B. Minienvironment-Ansatz

Beim Minienvironment-Ansatz werden nur die Räume, die mit dem Wafer in Berührung kommen, etwa im FOUP und im Anlageninneren, extrem sauber gehalten; die Reinheit des Bereichs, in dem Personen arbeiten, wird etwas gelockert. Da das zu reinigende Volumen erheblich kleiner ist, lassen sich Baukosten und Betriebskosten der Klimatisierung gegenüber dem Ballroom-Ansatz, bei dem der gesamte Raum höchsten Reinheitsanforderungen genügt, senken. Da Personen und Wafer getrennt sind, wird auch die Kontamination durch Personen verringert.

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