先進電晶體(FinFET與GAA)

在製作於塊材基板上的 FinFET 中,於鰭片根部(閘極不易控制的部分)設置高濃度雜質層的目的為何?

  1. A抑制通過鰭片下方部分的擊穿(punch-through)漏電流
  2. B為了降低閘極的電阻
  3. C為了使鰭片變高
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正確答案:A. 抑制通過鰭片下方部分的擊穿(punch-through)漏電流

在塊材 FinFET 中,鰭片的下部沒有被閘極包覆,因此源極與汲極之間容易漏電。在鰭片根部附近設置與通道相反導電型的高濃度層(擊穿阻擋層),以抑制這條路徑的漏電。由於不希望在通道部分摻入雜質,難以控制只在較淺的位置陡峭地摻入。若使用 SOI 基板,可用絕緣膜隔離,但晶圓價格昂貴。

  • A. 正確。抑制鰭片下部的漏電。
  • B. 與閘極電極的電阻無關。
  • C. 並不是用來改變鰭片高度的層。
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