新世代記憶體

作為 ReRAM 電阻變化層而被研究、實用化的材料例子,下列何者正確?

  1. A單質的銅
  2. B氧化鉿或氧化鉭等金屬氧化物
  3. C單晶矽
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正確答案:B. 氧化鉿或氧化鉭等金屬氧化物

ReRAM 常使用氧化鉿、氧化鉭、氧化鈦等金屬氧化物。氧離子因電壓而移動,由缺氧部分(氧空缺)聚集而成的導電路徑會形成或消失,使電阻改變。氧化鉿與氧化鉭過去就用於 CMOS 的閘極絕緣膜與電容,製造設備與製程容易直接沿用,也是其優點。

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