Interconnectprocessen

Wat is het belangrijkste doel van de ontwerptruc om vias die boven en onder verbinden, waar mogelijk niet als één maar als twee of meer naast elkaar te plaatsen?

  1. AOm de verbinding te behouden ook als één via defect raakt, en zo yield en betrouwbaarheid te verhogen
  2. BOm de chip groter te maken
  3. COm de bedradingscapaciteit te vergroten
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Om de verbinding te behouden ook als één via defect raakt, en zo yield en betrouwbaarheid te verhogen

Vias kunnen door productievariaties open defecten of een hoge weerstand krijgen, en omdat een chip er miljarden heeft, beïnvloedt ook een kleine kans per via de totale yield. Als op plaatsen met ruimte twee of meer vias naast elkaar worden geplaatst (redundante vias), blijft de verbinding behouden ook als één defect is, daalt de weerstand en wordt de stroom verdeeld, waardoor ook de weerstand tegen elektromigratie toeneemt. Gewoonlijk vervangen ontwerptools na het bedraden automatisch vias door redundante vias.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Interconnectprocessen

  1. Welke term wordt gebruikt voor het deel van contacten en lokale bedrading dat de transistors (FEOL-zijde) met de meerlaagse bedrading verbindt?
  2. Wat is de juiste hoofdreden waarom de weerstand van vias een probleem is geworden in meerlaagse bedrading waar schaalverkleining ver is gevorderd?
  3. Welke uitspraak over de capaciteit van een bedrading is juist?
  4. Welk effect heeft het vergroten van de dikte (hoogte) van een bedrading zonder de breedte te veranderen?
  5. Hoe heet het probleem waarbij in chips met mechanisch zwakke Low-k-films de film scheurt of loslaat door spanning bij montage in de package?