Cleanroom en productieapparatuur

Hoe wordt in een cleanroom volgens de bay-chase-methode de reinheid van de onderhoudsruimte (chase) achter de apparatuur gewoonlijk behandeld?

  1. AHij wordt met de hoogste reinheid in de fabriek beheerd
  2. BHij krijgt dezelfde omgeving als buiten
  3. CHij wordt vaak op een lagere reinheid beheerd dan het werkgebied waar wafers worden behandeld (bay)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Hij wordt vaak op een lagere reinheid beheerd dan het werkgebied waar wafers worden behandeld (bay)

Bij de bay-chase-methode wordt het werkgebied waar wafers worden behandeld (bay) op een hoge reinheid gehouden en wordt de onderhoudsruimte achter de apparatuur (chase) vaak op een lagere reinheid beheerd. Door de apparatuur als het ware in de wand in te bouwen en alleen het bedieningsvlak aan de baykant te laten uitkomen, wordt voorkomen dat deeltjes van onderhoudswerk in de bay komen. Door de reinheid in zones te verdelen, kunnen bouw- en bedrijfskosten worden beperkt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Cleanroom en productieapparatuur

  1. Welk element, afgegeven door onder meer glasvezelfilters, kan ongewenste doping (verontreiniging) van wafers veroorzaken?
  2. Welke waarde benadert de gebruikelijke ingestelde temperatuur van een cleanroom het best?
  3. Welk apparaat wordt gebruikt om het aantal en de grootte van fijne deeltjes in de lucht van een cleanroom te meten?
  4. Wat wordt bij de ingang van een cleanroom op de vloer gelegd om stof van schoenzolen te verwijderen?
  5. Welke uitspraak over de hoeveelheid deeltjes die een operator in een cleanroom afgeeft is juist?