이온 주입

얕은 p형 접합을 만들 때 붕소와 함께 탄소 등을 주입(공동 주입)하는 주된 목적은 무엇인가?

  1. Ap형을 n형으로 바꾸기 위해
  2. B웨이퍼를 발광시키기 위해
  3. C붕소의 확산을 억제하여 접합을 얕게 유지하기 위해
정답과 해설 보기

정답: C. 붕소의 확산을 억제하여 접합을 얕게 유지하기 위해

붕소는 격자간 실리콘의 도움을 받아 확산이 증속됩니다(과도 증속 확산). 탄소를 10¹⁵ cm⁻² 정도 함께 주입하면 탄소가 격자간 실리콘을 포획하여 소비하므로 붕소의 확산이 억제되고, 어닐링 후에도 얕은 접합을 유지할 수 있습니다. 불소나 질소의 공동 주입도 비슷한 목적으로 사용됩니다. 마찬가지로 인의 확산도 탄소로 억제할 수 있기 때문에, nMOS의 에피택셜 Si:P에도 탄소를 첨가하는 경우가 있습니다.

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