이온 주입

이온 주입 중 웨이퍼의 대전(차지업)을 억제하기 위해 사용되는 것은 무엇인가?

  1. A웨이퍼를 고온으로 가열한다
  2. B빔 전류를 최대로 한다
  3. C전자를 공급하여 전하를 중화하는 장치(플라즈마 플러드 건 등)
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정답: C. 전자를 공급하여 전하를 중화하는 장치(플라즈마 플러드 건 등)

양이온을 계속 주입하면 웨이퍼 위의 절연된 게이트나 레지스트 표면이 대전되어, 두께 수 nm의 얇은 게이트 산화막에 높은 전계가 걸려 파괴되거나 빔이 휘어질 우려가 있습니다. 그래서 아르곤 등의 플라즈마에서 저에너지 전자를 웨이퍼 근처로 공급하여 양전하를 중화하는 플라즈마 플러드 건(PFG)이 사용됩니다. 전자의 에너지가 너무 높으면 오히려 음으로 대전되므로 조정이 필요합니다.

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