Qu'est-ce que Gaz bidimensionnel d'électrons (2DEG) ?

Couche d'électrons à haute densité confinée dans une fine couche à l'interface d'une hétérojonction comme AlGaN/GaN. Peu diffusée par les impuretés et très mobile, elle sert de canal aux HEMT.

Nom japonais: 2次元電子ガス(2DEG)

« Gaz bidimensionnel d'électrons (2DEG) » apparaît dans 2 questions d'entraînement réparties sur 2 thèmes, dont Semi-conducteurs de puissance, Croissance épitaxiale.

Domaine: Semi-conducteurs composés

S'entraîner : questions sur Gaz bidimensionnel d'électrons (2DEG)

Quel est le canal dans lequel circule le courant d'un HEMT GaN ?

  1. AUne couche d'inversion de type p formée sous la grille
  2. BUne couche épaisse de type n fortement dopée
  3. CLe gaz d'électrons bidimensionnel (2DEG) créé par polarisation à l'interface AlGaN/GaN
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Réponse : C. Le gaz d'électrons bidimensionnel (2DEG) créé par polarisation à l'interface AlGaN/GaN

Dans un HEMT GaN, la différence de polarisations spontanée et piézoélectrique crée à l'interface AlGaN/GaN un gaz d'électrons bidimensionnel (2DEG) de densité très élevée, environ 10¹³ cm⁻². Les électrons étant produits sans dopage, la diffusion est faible et la mobilité élevée, environ 2000 cm²/V·s, ce qui concilie faible résistance à l'état passant et commutation rapide. Le 2DEG existant même avec une tension de grille de 0 V, la structure de base est de type normalement passant.

Dans une structure épitaxiale pour HEMT GaN, quel est l'objectif principal de l'ajout de carbone ou de fer dans la couche tampon GaN sous le canal ?

  1. ALa faire émettre de la lumière
  2. BRendre la couche tampon très résistive pour limiter le courant de fuite à l'état bloqué et les effets de canal court
  3. CRendre la couche tampon peu résistive pour faciliter le passage du courant
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Réponse : B. Rendre la couche tampon très résistive pour limiter le courant de fuite à l'état bloqué et les effets de canal court

Le GaN tend à être de type n à cause de donneurs comme l'oxygène ou le silicium incorporés involontairement pendant la croissance ; si le courant circule dans la couche tampon, la grille l'arrête difficilement et les fuites augmentent à haute tension. L'ajout de carbone ou de fer fait piéger les électrons par des niveaux profonds et rend la couche tampon très résistive. Cependant, tant que les charges piégées ne sont pas libérées, le 2DEG diminue et le courant baisse temporairement (effondrement de courant, current collapse) ; l'ajustement de la quantité et de la position des dopants est donc important.

« Gaz bidimensionnel d'électrons (2DEG) » dans les explications

Questions mentionnant « Gaz bidimensionnel d'électrons (2DEG) » (2)

  1. Quel est le canal dans lequel circule le courant d'un HEMT GaN ?
  2. Dans une structure épitaxiale pour HEMT GaN, quel est l'objectif principal de l'ajout de carbone ou de fer dans la couche tampon GaN sous le canal ?

Termes associés

HEMT (transistor à haute mobilité électronique) GaN (nitrure de gallium) Mobilité Résistance à l'état passant (RDS(on)) Chute d'efficacité (efficiency droop) Ga2O3 (oxyde de gallium) GaAs (arséniure de gallium) Gap direct InP (phosphure d'indium) Loi de Vegard

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