Pourquoi un film de SiO2 peut-il servir de masque de diffusion contre le bore ou le phosphore, mais fonctionne-t-il mal comme masque contre le gallium ou l’aluminium ?

Réponse : B. Parce que le gallium et l’aluminium diffusent très rapidement dans SiO2

Le bore et le phosphore diffusent beaucoup plus lentement dans SiO2 que dans le silicium, si bien que l’oxyde peut les arrêter. En revanche, le gallium et l’aluminium diffusent rapidement dans SiO2 et ne conviennent pas à une diffusion sélective masquée par oxyde. L’aluminium, de faible solubilité limite et diffusant vite jusqu’à de grandes profondeurs, sert parfois aux jonctions profondes des dispositifs de puissance. C’est l’une des raisons pour lesquelles le bore est le principal dopant de type p du silicium.