Prozessmaterialien (Gase, Chemikalien)

Wofür wird Reinstwasser in einer Halbleiterfabrik am meisten verbraucht?

  1. AAls Trinkwasser für Arbeiter
  2. BNur zur Luftbefeuchtung der Klimaanlage
  3. CZum Reinigen und Spülen von Wafern
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Antwort: C. Zum Reinigen und Spülen von Wafern

Reinstwasser wird in großen Mengen für das Spülen nach der Reinigung mit Chemikalien und überhaupt für die in jedem Prozess durchgeführte Waferreinigung verwendet. In großen Fabriken kann der Verbrauch mehrere zehntausend Tonnen pro Tag erreichen, und Anlagen, die gebrauchtes Spülwasser zurückgewinnen und wieder zu Reinstwasser aufbereiten, sind wichtig. Es wird durch eine Kombination aus Umkehrosmose, Ionenaustausch, UV-Oxidation und Ultrafiltration hergestellt, um Ionen, organische Stoffe, Partikel und gelöste Gase bis ins Äußerste zu entfernen.

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