移除SiO2的犧牲層使MEMS結構懸浮時，為了防止黏附（stiction）所使用的適當方法為下列何者？

正確答案：C. 使用氟化氫（HF）蒸氣的氣相蝕刻

若以液態氫氟酸移除犧牲層，乾燥時殘留在可動部與基板之間的液體表面張力，可能會把結構拉向基板而黏住。使用HF蒸氣的氣相蝕刻因為不使用液體，所以不會產生這種力。會加入少量的水分或酒精來控制反應，並管理溫度，避免反應生成的水凝結。以超臨界二氧化碳進行乾燥，也因消除了液體與氣體的界面而能防止相同的問題。