SiO2 희생층을 제거하여 MEMS 구조를 띄울 때, 스틱션을 방지하기 위해 사용되는 방법으로 적절한 것은?

정답: C. 불화수소(HF) 증기에 의한 기상 식각

액체 불산으로 희생층을 제거하면, 건조 시 가동부와 기판 사이에 남은 액체의 표면장력으로 구조가 끌려가 달라붙는 일이 있습니다. HF 증기를 사용한 기상 식각에서는 액체를 사용하지 않으므로 이 힘이 생기지 않습니다. 소량의 수분이나 알코올을 첨가해 반응을 제어하고, 반응으로 생기는 물이 응축되지 않도록 온도를 관리합니다. 초임계 이산화탄소를 이용한 건조도 액체와 기체의 경계를 없애 같은 문제를 방지합니다.