半導体物性

ドナー濃度1×10¹⁶ cm⁻³のn型シリコン(ドナーはすべてイオン化、真性キャリア密度ni = 1×10¹⁰ cm⁻³)の正孔密度はおよそいくらか。

  1. A1×10⁴ cm⁻³
  2. B1×10⁶ cm⁻³
  3. C1×10¹⁰ cm⁻³
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正解:A. 1×10⁴ cm⁻³

電子密度はドナー濃度とほぼ等しく n ≈ 1×10¹⁶ cm⁻³ です。質量作用の法則 n × p = ni² より、p = (1×10¹⁰)² / 1×10¹⁶ = 1×10⁴ cm⁻³ となります。多数キャリアに比べて、少数キャリアは非常に少なくなります。

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