最先端のEUV露光装置についての説明として適切なものはどれか。

正解：B. 供給できる企業が極めて限られており、先端半導体の製造の要となっている

EUV露光装置は、光源、多層膜ミラー、真空技術などの高度な技術を結集した装置で、量産用の装置を供給できる企業は極めて限られています。非常に高価で、先端のロジックやメモリの製造に欠かせない装置となっています。