MOSFET

Welke toestand van het halfgeleideroppervlak is juist wanneer bij een MOS-structuur met p-type substraat een negatieve spanning op de gate wordt gezet?

  1. AInversietoestand waarin elektronen zich ophopen
  2. BAccumulatietoestand waarin gaten zich ophopen
  3. CVolledig vacuüm zonder ladingdragers
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Accumulatietoestand waarin gaten zich ophopen

Als bij een MOS-structuur met p-type substraat een negatieve spanning op de gate wordt gezet, worden de meerderheidsladingdragers, de gaten, naar het oppervlak getrokken en ontstaat de accumulatietoestand. Bij een positieve spanning worden eerst de gaten verdreven en blijven alleen vaste acceptorionen over (depletietoestand), en bij een grotere spanning verzamelen minderheidselektronen zich (inversietoestand). De drie toestanden accumulatie, depletie en inversie zijn bij C-V-metingen als verandering van de capaciteit te zien en vormen de basis van de beoordeling van MOS-structuren.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over MOSFET

  1. Welk ontwerp is juist om de logische drempelspanning van een CMOS-inverter op ongeveer de helft van de voedingsspanning te brengen?
  2. Welk voordeel van een transmissiegate waarin nMOS en pMOS parallel zijn geschakeld, is juist?
  3. Welke vorm van doorslag kan optreden wanneer tussen gate en source een spanning wordt gezet die de nominale waarde ver overschrijdt?
  4. Wat is de juiste hoofdreden dat de mobiliteit in het kanaal van een MOSFET lager is dan de mobiliteit binnenin het siliciumkristal?
  5. Wat is de belangrijkste oorzaak dat bij kort-kanaal MOSFET's de drainstroom kleiner is dan de kwadratische wet in (VGS − Vth) en een afhankelijkheid vertoont die dicht bij de eerste macht ligt?

Vergelijkingen bij dit onderwerp