이온 주입

이온 주입으로 생기는 결정 손상의 분포로 일반적으로 올바른 것은 무엇인가?

  1. A표면에만 집중된다
  2. B웨이퍼 이면에 집중된다
  3. C이온이 멈추는 깊이(비정) 부근부터 그보다 약간 얕은 위치에 많이 생긴다
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정답: C. 이온이 멈추는 깊이(비정) 부근부터 그보다 약간 얕은 위치에 많이 생긴다

이온은 고속일 때는 주로 전자와의 상호작용(전자 저지)으로 에너지를 잃으며 원자를 그다지 튕겨 내지 않습니다. 속도가 떨어지면 원자핵과의 충돌(핵 저지)이 주가 되어 원자를 잇달아 튕겨 냅니다. 그래서 결정 손상은 이온이 멈추는 비정 부근과 그 조금 앞(Rp의 약 0.7~0.8배 깊이)에 가장 많이 생깁니다. 표면 바로 아래는 비교적 손상이 적고, 손상 분포는 불순물 분포보다 약간 얕아집니다.

  • A. 표면뿐 아니라 비정 부근까지의 깊이에 손상이 생깁니다.
  • B. 주입은 표면 쪽에서 하므로 이면에는 닿지 않습니다.
  • C. 올바릅니다. 비정 부근과 그 앞쪽에 많이 생깁니다.
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