에피택셜 성장

GaAs처럼 극성을 가진 화합물 반도체를 무극성 실리콘 기판 위에 성장시킬 때 생기기 쉬운, 결정 속에서 Ga와 As의 배열이 뒤바뀐 영역의 경계를 무엇이라고 하는가?

  1. A역위상 경계(APB)
  2. B쌍정 경계
  3. C결정립계
정답과 해설 보기

정답: A. 역위상 경계(APB)

GaAs처럼 극성을 가진 화합물을 무극성 실리콘 위에 성장시키면, 표면의 1원자층 단차 양쪽에서 Ga와 As의 위치가 바뀐 영역이 성장하고 그 경계에 역위상 경계(APB)가 생깁니다. APB에는 Ga-Ga나 As-As의 잘못된 결합이 있어 전기적 결함이 됩니다. 오프각이 있는 기판을 열처리하여 2원자층 단차로 정렬시키거나, 홈 안에서 성장시켜 APB를 가두는 등의 대책을 취합니다.

  • A. 맞습니다. 원자 배열이 뒤바뀐 영역의 경계입니다.
  • B. 쌍정 경계는 거울 대칭 관계에 있는 결정의 경계입니다.
  • C. 결정립계는 결정 방향이 다른 결정립의 경계입니다.
이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

에피택셜 성장의 다른 문제

  1. SiC의 에피택셜 성장에서 표면의 원자 스텝이 여러 개 모여 큰 단차가 되어 표면이 거칠어지는 현상을 무엇이라고 하는가?
  2. 에피택셜 성장에 대한 설명으로 올바른 것은?
  3. 헤테로에피택셜 성장의 예로 올바른 것은?
  4. MOCVD(유기금속 기상 성장법)가 주로 사용되는 용도는?
  5. 기판과 성장막의 격자상수 차이(격자 부정합)가 클 때 일어나기 쉬운 문제는?