Halfgeleiderfysica

Hoe heet het energieverschil tussen het vacuümniveau en de onderkant van de geleidingsband van een halfgeleider?

  1. AElektronenaffiniteit
  2. BWerkfunctie
  3. CBandkloof
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Elektronenaffiniteit

De elektronenaffiniteit (χ) is de energie die nodig is om een elektron aan de onderkant van de geleidingsband in vacuüm te brengen, en bedraagt bij silicium ca. 4,05 eV. Het is een materiaaleigenschap en verandert niet met de onzuiverheidsconcentratie. De werkfunctie daarentegen is het verschil tussen het Fermi-niveau en het vacuümniveau en verandert wel met de onzuiverheidsconcentratie. Bij een heterojunctie van verschillende halfgeleiders bepaalt het verschil in elektronenaffiniteit de sprong in de geleidingsband (ΔEc) (regel van Anderson).

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Halfgeleiderfysica

  1. Wat is de belangrijkste reden dat de mobiliteit in silicium met lage onzuiverheidsconcentratie daalt bij stijgende temperatuur?
  2. Welke waarde ligt het dichtst bij de intrinsieke ladingdragerdichtheid van silicium bij kamertemperatuur?
  3. Welke waarde ligt het dichtst bij de atoomdichtheid van een siliciumkristal?
  4. Welke uitspraak over een gat is juist?
  5. Welke waarde ligt het dichtst bij de bandkloof van germanium (Ge) bij kamertemperatuur?