Halfgeleiderfysica

Wat is bij benadering de resistiviteit van n-type silicium met een elektronendichtheid van 1×10¹⁶ cm⁻³ en een elektronenmobiliteit van 1000 cm²/V·s? (de bijdrage van gaten wordt verwaarloosd, elementaire lading 1,6×10⁻¹⁹ C)

  1. Aca. 0,06 Ω·cm
  2. Bca. 0,6 Ω·cm
  3. Cca. 60 Ω·cm
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. ca. 0,6 Ω·cm

De geleidbaarheid is σ = qnμ = 1,6×10⁻¹⁹ × 1×10¹⁶ × 1000 = 1,6 S/cm, en de resistiviteit is het omgekeerde: ρ ≈ 0,63 Ω·cm. “ρ ≈ 1/(qnμ)” is de basisformule om uit de resistiviteit van een wafer de dopantconcentratie te schatten. In de praktijk worden conversietabellen gebruikt die de concentratieafhankelijkheid van de mobiliteit meenemen (zoals de ASTM-norm); bijvoorbeeld een p-type wafer van 1 tot 10 Ω·cm komt overeen met ca. 10¹⁵ cm⁻³ boor.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Halfgeleiderfysica

  1. Hoe heet het energieverschil tussen het vacuümniveau en de onderkant van de geleidingsband van een halfgeleider?
  2. Wat is de belangrijkste reden dat de mobiliteit in silicium met lage onzuiverheidsconcentratie daalt bij stijgende temperatuur?
  3. Welke waarde ligt het dichtst bij de intrinsieke ladingdragerdichtheid van silicium bij kamertemperatuur?
  4. Welke waarde ligt het dichtst bij de atoomdichtheid van een siliciumkristal?
  5. Welke uitspraak over een gat is juist?