MOSFET

Dans un MOSFET à isolant de grille très mince, quel est l’effet du fait que le pic de distribution des électrons de la couche d’inversion se situe légèrement en retrait de l’interface ?

  1. ALa tension de seuil devient nulle
  2. BL’isolant de grille paraît effectivement plus épais, et la capacité de grille (capacité de commande) diminue
  3. CL’isolant de grille paraît effectivement plus mince, et la capacité de grille augmente
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : B. L’isolant de grille paraît effectivement plus épais, et la capacité de grille (capacité de commande) diminue

Les électrons de la couche d’inversion sont confinés dans un puits étroit par le fort champ d’interface ; par effet quantique, leur distribution présente un pic non pas juste à l’interface mais environ 1 nm à l’intérieur. Le centre de charge s’éloignant de l’interface, l’effet équivaut à un isolant plus épais d’environ 0.3 à 0.4 nm en équivalent SiO2, et la capacité de grille ainsi que le courant de commande diminuent. Avec la déplétion du polysilicium, c’est une cause de l’« épaisseur électrique (CET) » supérieure à l’épaisseur physique, dont le poids croît à mesure que l’EOT diminue.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur MOSFET

  1. Quelle expression donne correctement la résistance de sortie petit signal ro d’un MOSFET en saturation, en fonction du coefficient de modulation de longueur de canal λ et du courant de drain ID ?
  2. Quelle est la condition généralement retenue de « forte inversion » pour définir la tension de seuil d’un MOSFET ? (φF : potentiel de Fermi)
  3. Quelle est la condition de mise en conduction d’un MOSFET à canal n à enrichissement ? (VGS : tension grille-source, Vth : tension de seuil)
  4. Si l’on amincit uniquement l’isolant de grille sans changer son matériau ni sa surface, comment évolue la capacité de grille par unité de surface ?
  5. Pourquoi la consommation statique (en régime établi) d’un inverseur CMOS est-elle faible ?

Comparatifs sur ce thème