Quelle impureté est typiquement utilisée pour réaliser des couches de type p dans le GaN ?

Réponse : C. Magnésium (Mg)

Le dopage p du GaN utilise le magnésium, mais son niveau accepteur, situé environ 0,2 eV au-dessus de la bande de valence, est profond et seuls quelques % sont ionisés à température ambiante. Même avec un dopage supérieur à 10¹⁹ cm⁻³, la concentration de trous se limite à environ 10¹⁷ à 10¹⁸ cm⁻³. De plus, juste après la croissance, le Mg est lié à l'hydrogène et inactif, et doit être activé par traitement thermique ; la maîtrise de cette technique a permis les LED bleues à haute luminosité.