화합물 반도체
GaN에서 p형층을 만드는 데 사용되는 대표적인 불순물은?
- A인(P)
- B비소(As)
- C마그네슘(Mg)
정답과 해설 보기
정답: C. 마그네슘(Mg)
GaN의 p형화에는 마그네슘이 사용되지만, 억셉터 준위가 가전자대에서 약 0.2 eV로 깊어 실온에서 이온화되는 것은 수 %뿐입니다. 그래서 10¹⁹ cm⁻³ 이상의 고농도로 첨가해도 정공 농도는 10¹⁷~10¹⁸ cm⁻³ 정도에 그칩니다. 게다가 성장 직후에는 수소와 결합하여 불활성 상태이므로 열처리 등으로 활성화해야 하며, 이 기술의 확립이 고휘도 청색 LED의 실현으로 이어졌습니다.