良率與品質管理

在處理過程中監控製造設備的感測器資料(溫度、壓力、功率等),偵測與平常不同的狀態並及早通知異常的機制,稱為什麼?

  1. ACMP
  2. BMES
  3. CFDC(故障偵測與分類)
查看答案與解析

正確答案:C. FDC(故障偵測與分類)

FDC(Fault Detection and Classification)是在處理過程中即時蒐集設備的溫度、壓力、功率、氣體流量等感測器資料,偵測其與正常時波形的偏離並發出警報,或將異常的種類加以分類的機制。由於能在量測產品之前,甚至視情況在處理中晶圓的階段就察覺異常,所以可以防止大量不良的發生。MES則是管理生產流程的系統。

  • A. CMP是以研磨進行平坦化的製程。
  • B. MES是管理工廠生產流程的系統。
  • C. 正確。以設備資料及早偵測異常。
練習這個領域 前往領域頁面

良率與品質管理的其他題目

  1. 將稼動時間的比例、性能(速度)與良品率相乘,用來評估製造設備生產力的指標是下列何者?
  2. 在半導體工廠中,從晶圓投入到完成所需的時間稱為什麼?
  3. 為了同時監控製程平均值的變化與變異的變化,而將樣本的平均值與全距(最大−最小)分別以時間序列繪製的管制圖是下列何者?
  4. 管理工廠內哪個批次位於哪道製程、哪台設備,以及以什麼條件處理等,並下達指示、記錄生產流程的系統是下列何者?
  5. 從大量產品中抽取一部分檢查,以判定整個批次合格或不合格的方式中,表示視為合格之品質水準的指標是下列何者?