Halfgeleiderfysica

Wat is de juiste definitie van de werkfunctie van een materiaal?

  1. AHet energieverschil tussen het vacuümniveau en de onderkant van de geleidingsband
  2. BHet energieverschil tussen de onderkant van de geleidingsband en de bovenkant van de valentieband
  3. CHet energieverschil tussen het vacuümniveau en het Fermi-niveau
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Het energieverschil tussen het vacuümniveau en het Fermi-niveau

De werkfunctie is de energie die nodig is om een elektron op het Fermi-niveau in vacuüm te brengen, dus het verschil tussen het vacuümniveau en het Fermi-niveau. Bij halfgeleiders verschuift het Fermi-niveau met de onzuiverheidsconcentratie, zodat ook de werkfunctie verandert (bij silicium ca. 4,05 tot 5,17 eV). Het verschil in werkfunctie tussen metaal en halfgeleider bepaalt de Schottky-barrière en de drempelspanning van MOS, en materialen voor metal gates (TiN, TiAl enz.) worden gekozen op een werkfunctie die de beoogde drempelspanning geeft.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Halfgeleiderfysica

  1. Welke waarde ligt het dichtst bij de relatieve permittiviteit van silicium?
  2. Welke waarde ligt het dichtst bij de elektronenmobiliteit van zuiver silicium bij kamertemperatuur?
  3. Wat is de juiste reden dat bij een halfgeleider met indirecte overgang zoals silicium de kans klein is dat elektron en gat recombineren onder uitzending van licht?
  4. Hoe heet het niveau dat wordt ingevoerd om de elektronendichtheid en de gatendichtheid elk afzonderlijk weer te geven in een halfgeleider die door belichting of stroominjectie uit thermisch evenwicht is?
  5. Welke waarde ligt het dichtst bij de roosterconstante van een siliciumkristal?