MOSFET

MOSFET의 문턱 전압을 정의할 때 사용되는 '강반전'의 조건으로 일반적인 것은? (φF: 페르미 전위)

  1. A표면 전위가 −φF가 된다
  2. B표면 전위가 2φF가 된다(표면의 소수 캐리어 밀도가 기판의 다수 캐리어 밀도와 같아진다)
  3. C표면 전위가 0이 된다
정답과 해설 보기

정답: B. 표면 전위가 2φF가 된다(표면의 소수 캐리어 밀도가 기판의 다수 캐리어 밀도와 같아진다)

강반전의 시작은 표면 전위가 2φF가 될 때, 즉 표면의 전자 밀도가 기판 내부의 정공 밀도와 같아질 때로 정의되는 것이 일반적입니다. 이때의 게이트 전압이 문턱 전압이며, Vth = VFB + 2φF + √(2εqNA·2φF)/Cox로 표현됩니다. 실제 측정에서는 일정 전류가 되는 게이트 전압(정전류법)이나 ID-VG 곡선의 직선부를 외삽하는 방법으로 Vth를 정하기 때문에, 정의에 따라 값이 조금 다릅니다.

  • A. 표면 전위가 음의 방향이면 p형 기판의 표면은 축적 상태가 됩니다.
  • B. 올바릅니다. 표면 전위 2φF가 강반전의 기준입니다.
  • C. 표면 전위 0은 플랫밴드 상태입니다.
이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

MOSFET의 다른 문제

  1. 인핸스먼트형 n채널 MOSFET이 켜지는(도통하는) 조건으로 올바른 것은? (VGS: 게이트-소스 간 전압, Vth: 문턱 전압)
  2. 게이트 절연막의 재료와 면적은 바꾸지 않고 막 두께만 얇게 하면 단위 면적당 게이트 커패시턴스는 어떻게 되는가?
  3. CMOS 인버터의 정적(정상 상태) 소비 전력이 작은 이유로 올바른 것은?
  4. 장채널 MOSFET이 포화 영역에서 동작할 때 드레인 전류 ID는 대략 무엇에 비례하는가? (VGS: 게이트-소스 간 전압, Vth: 문턱 전압)
  5. 같은 치수의 nMOS와 pMOS에서는 일반적으로 nMOS의 구동 전류가 더 크다. 그 주된 이유는 무엇인가?

이 분야의 비교