LSI設計流程與EDA

在類比電路設計中,隨機地反覆給予製造變異所造成的電晶體特性變化來進行模擬,以估算效能分布與良率的手法為下列何者?

  1. A蒙地卡羅模擬
  2. B邏輯合成
  3. C切割(dicing)
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正確答案:A. 蒙地卡羅模擬

蒙地卡羅模擬是依據PDK的變異模型,以亂數改變臨界電壓等參數,反覆進行數百次、數千次的電路模擬。可從偏移電壓或增益等的分布,估算滿足規格的比例(參數良率)。對於像SRAM單元這種數百萬個中連一個都不能失敗的電路,也會使用能有效估算罕見失敗的方法。

  • A. 正確。這是以亂數給予變異並反覆進行的模擬。
  • B. 邏輯合成是從RTL產生邏輯閘電路的製程。
  • C. 切割是分割晶圓的製程。
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