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Industrie et marché des semi-conducteurs

Quel énoncé concernant les équipements de lithographie EUV de pointe est correct ?

  1. ADe nombreuses entreprises les fournissent à bas prix et ils sont faciles à obtenir
  2. BLes entreprises capables de les fournir sont extrêmement peu nombreuses, et ils sont la clé de voûte de la fabrication des semi-conducteurs de pointe
  3. CIls ne sont pas utilisés pour la fabrication des semi-conducteurs de pointe
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Réponse : B. Les entreprises capables de les fournir sont extrêmement peu nombreuses, et ils sont la clé de voûte de la fabrication des semi-conducteurs de pointe

L'équipement de lithographie EUV réunit une source plasma obtenue en irradiant des gouttelettes d'étain par laser, des miroirs multicouches d'une réflectivité d'environ 70 %, des technologies de vide poussé, etc. ; seule la société néerlandaise ASML fournit de fait des équipements de production. Très coûteux (plusieurs dizaines de milliards de yens l'unité), il est indispensable à la fabrication des logiques et mémoires de pointe. Ses composants proviennent d'entreprises spécialisées du monde entier, et il est soumis à des contrôles à l'exportation.

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