MOSFET의 게이트 길이(마스크상 또는 가공 후의 게이트 전극 길이)와 유효 채널 길이의 관계로 일반적으로 올바른 것은?

정답: A. 유효 채널 길이는 게이트 길이보다 소스·드레인이 게이트 아래로 가로 방향으로 퍼진 만큼 짧다

소스·드레인의 불순물은 주입이나 열처리로 게이트 전극 아래까지 가로 방향으로 조금 퍼지기 때문에, 유효 채널 길이는 게이트 길이보다 양쪽의 겹침 분만큼 짧아집니다. 겹침 부분은 게이트-소스·드레인 간 오버랩 커패시턴스가 되어 밀러 효과로 지연을 늘립니다. 첨단 세대에서는 열처리를 극히 짧은 시간(밀리초 어닐)으로 하여 퍼짐을 억제하고 있습니다. 참고로 '3 nm' 같은 세대 이름은 실제 게이트 길이와 대응하지 않습니다.

• A. 올바릅니다. 가로 방향 퍼짐(오버랩)만큼 짧아집니다.
• B. 불순물은 게이트 아래로 파고들기 때문에 유효 채널 길이는 짧아지는 방향입니다.
• C. 가로 방향 확산이 있기 때문에 일반적으로 일치하지 않습니다.